法國人Nicephore niepce。盡管光刻機發明的時間較早，但并沒有在各行業領域之中被使用，直到第2次世界大戰時，該技術應用于印刷電路闆，所使用的材料和早期發明時使用的材料也已經有了極大區别，在塑料闆上通過銅線路制作，讓電路闆得以普及，短期之内就成為了衆多電子設備領域中關鍵材料之一。
光刻機：光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到矽片上。
光刻機一般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動。
A手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；
B半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧；
C自動：指的是從基闆的上載下載，曝光時長和循環都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。
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