單片清洗機-華林科納CSEsingle wafer cleaner system
華林科納CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗（包括光刻闆清洗)刻蝕去膠金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12”;
可處理晶四材料︰矽砷化镕磷化锢氮化邃碳化矽銀酸锂袒酸锂等;
主要應用領域︰集成電路聲表面波器件微波毫米波器件MEMS先進封裝等
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設備名稱 |
CSE-單片清洗機 | ||
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類型 |
單片式 | ||
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适用領域 |
半導體、太陽能、液品、MEMS等 | ||
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清洗方式 |
2英寸——12英寸 | ||
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設備穩定性 |
1、≥0.2um顆粒少于10顆 2、金屬附着量:<3E10 atoms/ cm- 3、純水消耗量: 1L/min/片 4、蝕刻均一性良好(Si0z氧化膜被稀釋HF處理）:名2% 5、幹燥時間:≤20S 6、藥液回收率:≥95% |
單片式優點 |
1、單片處理時間短（相較于槽式清洗機） 單片清洗機
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